超純粋なろ過技術の理解

現代の世界では、超クリーン環境の需要が増え続けています。半導体製造から製薬生産まで、超純粋なろ過システムの必要性はこれまでになく重要になりました。しかし、超純粋なろ過とは正確には何ですか？それがそんなに不可欠なのは何ですか？

Ultrapure Filtration Technologyは、汚染物質を空気から除去して、厳格な清潔さの基準を満たす環境を作成するように設計されています。このテクノロジーの中心にあるのは、99.99％の効率で0.3マイクロメートルの小粒子をトラップする高度なフィルターであり、ISOクラス3の清潔さを達成しています。このレベルのろ過は、最小の粒子でさえ重大な問題につながる産業にとって不可欠です。

超純粋なろ過の中核原理

超純粋なろ過は、高度な粒子捕獲と気流管理の原則に基づいて動作します。システムには、H13からU17までのろ過グレードを達成できるHEPAおよびULPAフィルターが装備されています。これらのフィルターは、耐久性と堅牢性のためにアルミニウムフレームに囲まれた、グラスファイバーやPTFEなどのさまざまな材料で利用できます。モジュラー設計により、ルームサイド、サイド、ボトム、またはトップアクセスのオプションを備えたフィルターの交換とメンテナンスを簡単に使用できます。

革新的な機能と利点

これらのシステムの傑出した機能の1つは、インテリジェントな気流制御の統合です。効率的なECモーターを利用して、これらのユニットは段階的な速度調整を提供し、従来のACモーターと比較してエネルギー消費を最大40％削減します。さらに、手動調整からコンピューターネットワークを介した集中制御まで、柔軟な制御オプションを提供し、正確な運用管理を確保しています。

静的の影響を受けやすい環境の場合、これらのろ過ユニットには、組み込みの静的エリミネーションデバイスが組み込まれています。この機能は、静的な半導体製造などの設定で重要であり、静的がダスト粒子を引き付けるか、微小回路損傷を引き起こす可能性があります。さらに、リアルタイムの監視機能が利用可能になり、静的センサーと差圧計を統合してPLC/BMSシステムにデータを供給し、最適なパフォーマンスと清潔さを維持します。

業界全体のアプリケーション

超純粋なろ過の用途は広大で多様です。

• 半導体/電子製造：ウェーハリソグラフィゾーンとFPCボンディングワークショップで利用して、ほこりを最小限に抑え、静的誘発性の故障を防ぐことにより、収量を強化します。
• 精密光学：AR/VRコーティングラインとレーザーレーダーアセンブリには不可欠であり、イオン中和と静的保護が最重要です。
• バイオ医薬品：凍結乾燥した粉末充填および細胞培養室で重要であり、静的で粒子状の制御された環境を確保します。
• 新しいエネルギー：ほこりの爆発を防ぎ、敏感なコンポーネントを保護するために、リチウムバッテリー電極ワークショップに展開されます。

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